Компания ZENCO PLASMA в 4 раз приняла участие в выставке SEMICON Russia 2016, которая проходила 8 – 9 июня, в ЦВК «Экспоцентр» на Красной Пресне.
Наша компания представила плазмохимические системы производства Plasma-Therm&AdvancedVacuum, оборудование для напыления и испарения металлов компании FHR, системы жидкостной очистки пластин и фотошаблонов производства компании Ultra Т Equipment, контрольно-измерительное оборудование одного из ведущих производителей в этой области компании Semilab, восстановленное оборудование KLA-Tencor и степперы Canon, настольные установки напыления и испарения компании NSC.
На стенде была представлена новинка производства компании Plasma-Therm - установка беззарядовой плазменной очистки поверхности Odyssey HDRF. Технология HDRF (High Density Radical Flux) полностью исключает ионную составлящую процесса травления, что позволяет избежать внесение электрического заряда в полупроводниковую структуру. Установка применяется для низкотемпературного (50-150˚С) снятия фоторезиста, удаления полимера и сглаживания стенок канавки после Bosch-процесса, очистки сложных 3D-структур от органики. Возможна ручная или автоматическая работа с пластинами 100, 150 и 200 мм.
В целом, компания ZENCO PLASMA представила оборудование для производства изделий микроэлектроники, МЭМС, оптоэлектроники, фотовольтаики, сенсоров, органических дисплеев и др. включая следующие технологические операции: