Плазмохимическое осаждение
Компания ЗЭНКО ПЛАЗМА является официальным дистрибьютором компании Plasma-Therm LLC и Advanced Vacuum Systems AB (с 2011г. входит в группу компаний Plasma-Therm). Более 40 лет Plasma-Therm производит высококачественное оборудование R&D и промышленного назначения. Компания имеет более 37 патентов в области плазменных технологий. Располагая собственной лабораторией по разработке технологических процессов, компания обеспечивает своих клиентов самыми передовыми технологиями и поставляет системы плазмохимического осаждения из газовой фазы (PECVD), плазмохимического осаждения с источником индуктивно связанной плазмы (HDP-CVD). При производстве используются только высококачественные комплектующие, что обеспечивает непревзойденную надежность оборудования. ЗЭНКО ПЛАЗМА производит поставку, пуско-наладку, гарантийное и пост гарантийное обслуживание.
Системы для R&D и мелкосерийного производства:
Vision 310 – установка PECVD осаждения диэлектриков без вакуумного загрузочного шлюза. Групповая и одиночная обработка пластин диаметром от 50 до 300мм.
Vision 410 – установка PECVD осаждения диэлектриков без вакуумного загрузочного шлюза. Групповая и одиночная обработка пластин диаметром от 50 до 400мм.
Apex SLR HDP-CVD - высоконадежная и экономически выгодная установка осаждения диэлектрических слоев для мелкосерийного производства. Установка оснащена источником ICP плазмы, позволяющим проводить процессы осаждения при температуре 180⁰С. Обеспечивает полуавтоматическую загрузку через шлюзовую камеру, индивидуальную обработку пластин диаметром до 200мм, возможность плазмохимического осаждения легированных слоев.
Промышленные системы осаждения:
Versaline PECVD – является флагманским продуктом компании Plasma-Therm для процессов плазмохимического осаждения слоев диэлектриков из газовой фазы. Система Versaline – это оборудование с возможностью широкой конфигурацией отдельных узлов системы согласно требованиям заказчика, обеспечивает индивидуальную и групповую обработку пластин разных материалов, размеров и форм. Имеет большую библиотеку осаждаемых материалов. Обеспечивает работу из кассеты в кассету, возможность кластерного исполнения (до 6-ти камер), размер электрода – 11" (279мм). Поставляется в двух вариантах: PECVD и HDP-CVD.
LA PECVD – представляет собой высокопроизводительное и экономически выгодное решение производства Plasma-Therm, для процессов плазмохимического осаждения слоев диэлектриков из газовой фазы. Система специально разработана для групповой обработки большого количества подложек до 3 пластин диаметром 200мм. Обеспечивает работу из кассеты в кассету, кластерное исполнение (до 2-х камер).