Установка плазмохимического осаждения слоев Vision 310 PECVD

  • a-Si:HSiO2
  • Si3N4 (с регулируемыми механическими напряжениями)
  • SiON
  • SiC

Особенности:

  • Идеально подходит для исследований и разработок
  • Групповая и одиночная обработка пластин размером от 2" до 12"
  • Высокая равномерность (<±3%)
  • Низкий уровень дефектности
  • Надежность
  • Компактный размер

 Технические характеристики
Размер столика (электрода)12.1"  (305мм)
Температура столика (электрода)≤380⁰С
Материал столика (электрода)Алюминий
RF мощность верхнего электрода300Вт, 13,56МГц, емкостной разряд
Вакуумный насос250 м3/ч насос Рутса
Минимальное давление<10 мТорр
Контроль давленияАвтоматический, 0-1 Торр
Газовые линии5 линий (цифровые MFC)
Система контроляPLC, DeviceNet (нет совместимости с SECS/GEM)
Операционная оболочкаPLC  (на базе Windows XP/7)
Требования к электропитанию32А, 200/208В, 60Гц, 3 фазы
25А, 380/400В, 50Гц, 3 фазы
РазмерыВысота 117,2см (214,7см с газораспределительным шкафом)
Глубина 93,4см
Ширина 73,0см
ОпцииИсточник питания 500Вт, 100-460КГц для смешанного возбуждения разряда (контроль мех. напряжений SiNx);
Система определения окончания процесса Endpoint: OES;
Сухой форвакуумный насос;
Дополнительные газовые линии (до 10 линий);
Система нагрева стенок камеры;