Компания ЗЭНКО ПЛАЗМА, в сотрудничестве с FHR Anlagenbau GmbH (Германия), предлагает системы вакуумного напыления для задач микроэлектроники, фотовольтаики, сенсоров, оптики, МЭМС, органических дисплеев (OLED), для производства архитектурного стекла. Компанию FHR отличает высочайшее немецкое качество сборки, собственный парк оборудования для демонстрационных процессов, возможность изготовить практически любую систему на заказ и более чем 20 летний опыт в производстве высокотехнологичного оборудования. В тоже время, FHR входит в холдинг Сentrotherm photovoltaics AG – один из мировых лидеров в производстве оборудования для фотовольтаики, микроэлектроники, полупроводникового производства. ЗЭНКО ПЛАЗМА производит консультирование, поставку, пуско-наладку, гарантийное и пост гарантийное обслуживание.

Предлагаются системы вакуумного напыления следующих серий:

промышленные системы магнетронного или термического напыления металлических, оксидных и нитридных слоев

Roll-to-Roll - промышленные системы магнетронного или термического напыления металлических, оксидных и нитридных слоев на полимерные и металлические пленки (по принципу с рулона на рулон) шириной до 2400 мм (2,4 м). Данные системы применяются при обработке рулонных материалов на основе тонких металлических и полимерных пленок, в пищевой промышленности, в производстве гибкой (органической) электроники, гибких солнечных элементов (тонкопленочные технологии CIGS, CdTe, a-Si), для осаждения оптических покрытий с высокой отражающей способностью, барьерных, проводящих, изолирующих слоев. Поддерживают следующие технологические процессы: магнетронное напыление (DC, MF, RF режимы), зачистка поверхности ионным пучком, сухое травление, термическое напыление, термический отжиг, плазмохимическое осаждение (PECVD).В зависимости от процесса, возможна конструкция с вакуумным загрузочным шлюзом.

промышленные системы вакуумного напыления с горизонтальной или вертикальной обработкой стеклянных или металлических подложек

Line – промышленные системы вакуумного напыления с горизонтальной или вертикальной обработкой стеклянных или металлических подложек размером до 2,2 м в ширину и длиной до 4 м. В основном применяются для напыления прозрачных проводящих оксидов (TCO) в производстве тонкопленочных солнечных элементов; в производстве архитектурного стекла для улучшения коэффициента теплопередачи, светопропускания; в производстве дисплеев (в т.ч. OLED), в области нанесения защитных покрытий. Поточная линия обработки, обеспечивает высочайшие показатели производительности и качество напыляемых пленок. Возможна индивидуальная конфигурация в зависимости от размеров подложки, производительности и параметров процесса напыления.

данная серия представляет собой системы кластерного типа с одиночной обработкой для мелкосерийного производства и НИОКР в области микроэлектроники, оптики, МЭМС, датчиков

Star – данная серия представляет собой системы кластерного типа с одиночной обработкой для мелкосерийного производства и НИОКР в области микроэлектроники, оптики, МЭМС, датчиков. Позволяет работать как с одиночной загрузкой пластин диаметром до 300 мм, так и с кассетами. Центральный робот обеспечивает перемещение подложки между технологическими модулями системы. Может оснащаться шлюзом загрузки пластин, технологическими модулями: травления (PE, RIE), термического испарения, электронно-лучевого испарения, термического отжига (RTP/FLA), магнетронного напыления, плазмохимического осаждения (PECVD, CVD), атомно-слоевого осаждения (ALD). Системы данной серии актуальны, когда необходимо иметь несколько технологических процессов в пределах одной установки. Возможна установка в условиях чистых комнат через стену.

системы напыления данной серии обеспечивают групповую обработку подложек при производстве небольших партий оптических систем, МЭМС и датчиков

Boxx – системы напыления данной серии обеспечивают групповую обработку подложек при производстве небольших партий оптических систем, МЭМС и датчиков. Системы могут оснащаться вакуумным шлюзом загрузки. Загрузка подложек осуществляется вручную на вращающийся барабан внутри рабочей камеры. Во время вращения барабана, подложки проходят различные секции магнетронного напыления (DC, RF), что позволяет напылять несколько материалов в одном процессе. Секция плазменной очистки поверхности устанавливается по необходимости. Опционально, возможно установить до нескольких таких барабанов, использовать шлюзовую загрузку, а также обеспечить нагрев подложек во время процесса напыления. Возможна установка в условиях чистых комнат через стену.

установки напыления данной серии в основном предназначены для научно-исследовательских, опытно-конструкторских работ и мелкосерийного производства

Micro – установки напыления данной серии в основном предназначены для научно-исследовательских, опытно-конструкторских работ и мелкосерийного производства. Установки предназначены для одиночной обработки подложек диаметром до 200 мм, в том числе квадратных, прямоугольных. Установки позволяют напылять как металлические, так и диэлектрические слои. Доступны системы магнетронного напыления и термического испарения. Системы отличаются своей компактностью, гибкой конфигурацией, простотой в установке, использовании и обслуживании.

Мишени для магнетронного напыления

Мишени для магнетронного напыления
Мы предлагаем возможность изготовить мишени для установок магнетронного напыления. Современные технологии производства позволяют изготовить как планарные, так и цилиндрические мишени, в том числе нестандартные по чертежам. Доступны следующие типы материалов: металлические, сплавы (Al, Cr, Ti, Ni, In), бориды, карбиды, нитриды, оксиды, силициды, сульфиды, теллуриды. Сообщите нам ваши требования, и мы предоставим подходящее решение.