ДОСТАВКА ПО РОССИИ И СТРАНАМ СНГ
РЕЖИМ РАБОТЫ
09.00-18.00, пн-пт

Компания ЗЭНКО ПЛАЗМА является официальным дистрибьютором компании ULTRA t Equipment. Компания ULTRA t Equipment специализируется на производстве оборудования для жидкостной обработки (гидромеханическая отмывка, жидкостное травление), нанесения, проявления и удаления фоторезиста. Оборудование от ULTRA t Equipment находит применение в R&D центрах и производстве полупроводников, фотошаблонов, оптики и печатных плат.

Установка SCS112

Жидкостная обработка
  • идеальное решение для субмикронной отмывки пластин после резки или скрайбирования
  • односторонняя обработка
  • совместима с пластинами или рамками размером до 8”
  • осциллирующая система подачи деионизованной воды давлением 2000 PSI или аэрозольным распылением
  • вакуумный или механический подложкодержатель
  • ИК сушка
  • СО2 обработка для снятия статического заряда
  • высокая производительность.

Установка SCSe124

универсальная установка  для субмикронной отмывки кремниевых пластин,  пластин после резки или скрайбирования, фотошаблонов
  • универсальная установка для субмикронной отмывки кремниевых пластин, пластин после резки или скрайбирования, фотошаблонов
  • односторонняя обработка
  • совместима с подложками размером до 10”
  • осциллирующая система из двух диспенсеров для подачи деионизованной воды высокого и низкого давления
  • механический подложкодержатель
  • мегазвук или ультразвук
  • отмывка при помощи щеток
  • возможность подключения системы подачи химреактивов
  • ИК сушка
  • СО2 обработка для снятия статического заряда
  • высокая производительность

Установка SCSe 133

универсальная установка  для групповой отмывки кремниевых пластин, фотошаблонов и подложек
  • универсальная установка для групповой отмывки кремниевых пластин, фотошаблонов и подложек
  • односторонняя обработка
  • подложкодержатель размером 21”
  • осциллирующая система из четырех диспенсеров для подачи деионизованной воды высокого и низкого давления или аэрозольного распыления
  • вакуумный или механический подложкодержатель
  • мегазвук или ультразвук
  • отмывка при помощи щеток
  • возможность подключения системы подачи химреактивов
  • ИК сушка
  • СО2 обработка для снятия статического заряда
  • высокая производительность.

Установка DCSe606

универсальная установка  для групповой отмывки кремниевых пластин, фотошаблонов и подложек
  • универсальная установка для групповой отмывки кремниевых пластин, фотошаблонов и подложек
  • вертикальное расположение подложек
  • двухсторонняя обработка
  • подложкодержатель размером 20”
  • осциллирующая система из двух диспенсеров для подачи деионизованной воды высокого и низкого давления или аэрозольного распыления
  • вакуумный или механический подложкодержатель
  • мегазвук или ультразвук
  • отмывка при помощи щеток
  • возможность подключения системы подачи химреактивов
  • ИК сушка
  • СО2 обработка для снятия статического заряда
  • высокая производительность