ДОСТАВКА ПО РОССИИ И СТРАНАМ СНГ
РЕЖИМ РАБОТЫ
09.00-18.00, пн-пт

Компания ЗЭНКО ПЛАЗМА предлагает высокотехнологичные системы для атомно-слоевого осаждения. Оборудование создано совместно американскими и китайскими специалистами в области производства установок для микроэлектроники, а также ведущими специалистами Китайской академии наук. Международный R&D центр расположен в штате Нью-Джерси, США. Возможности оборудования соответствуют самым современным технологиям в области как атомно-слоевого, так и плазмостимулированного осаждения наноразмерных пленок любого состава.

Оборудование позволяет осаждать тонкие пленки оксидов (TiO2, HfO2, SiO2, ZnO, ZrO2, Al2O3, La2O3, SnO2 и тд.), нитридов (TiN, SiN, AlN, TaN, ZrN, HfN, WN и тд.), металлов (Co, Cu, Ta, Ti, W, Ge, Pt, Ru, Ni, Fe), полупроводники A2B6, A3B5 и сложные оксиды (GaAs, AlP, InP, GaP, InAs, LaHfxOy, SrTiO3, SrTaO6).

В декабре 2014 г. при помощи установки атомно-слоевого осаждения TALD, которая использовалась для осаждения подзатворного диэлектрика HfO2, специалистами из Пекинского университета был создан МОП транзистор с затвором 15нм. Благодаря экономически выгодным и современным техническим и технологическим решениям, оборудование уже заслужило признание в США и Восточной Азии (Китай, Япония, Тайвань, Ю.Корея).

ЗЭНКО ПЛАЗМА производит консультирование, поставку, пуско-наладку, гарантийное и пост гарантийное обслуживание.

установка атомно-слоевого осаждения

ZP-ALD - установка атомно-слоевого осаждения, предназначенная для мелкосерийного производства и проведения научных исследований. Рабочая камера с ручной загрузкой позволяет работать с пластинами до 300 мм.

установка плазмостимулированного атомно-слоевого осаждения

ZP-PEALD - установка плазмостимулированного атомно-слоевого осаждения с источником ICP плазмы. Позволяет проводить одиночную обработку пластин размером до 300 мм.

установка плазмостимулированного атомно-слоевого осаждения с источником ICP плазмы

ZP-PEALD-B - установка плазмостимулированного атомно-слоевого осаждения с источником ICP плазмы. Позволяет проводить групповую обработку до 20 пластин размером до 200 мм.

становка атомно-слоевого осаждения, разработанная специально для промышленного, крупносерийного производства

ZP-400L - установка атомно-слоевого осаждения, разработанная специально для промышленного, крупносерийного производства. Широко применяется в технологии производства МЭМС, НЭМС, ОСИД и плоских дисплеев, солнечных элементов, при нанесении оптических и наноразмерных покрытий.

система атомно-слоевого осаждения

ZP-500M - система атомно-слоевого осаждения, ориентированная на среднесерийное производство. Широко применяется в технологии производства МЭМС, НЭМС, ОСИД и плоских дисплеев, солнечных элементов, при нанесении оптических и наноразмерных покрытий.