ДОСТАВКА ПО РОССИИ И СТРАНАМ СНГ
РЕЖИМ РАБОТЫ
09.00-18.00, пн-пт
Корзина (0)
Установка реактивно-ионного травления Apex SLR Etch
- металлов: вольфрам, титан, и др.
- диэлектриков: оксидов, нитридов, оксидов металлов и др.
- материалов: кремний, германий, GaAs, GaN, InP, InGaAs, SiC
- полимеров: фоторезист, полиимиды, BCB, SU-8
Особенности:
- Идеально подходит для пилотного и мелкосерийного производства
- Реактор Plasma-Therm Shuttlelock® (SLR) с надежными и проверенными техническими решениями
- Одиночная обработка пластин размером до 8"
- Шлюзовая загрузка
- Позволяет проводить процесс травления с ICP (индуктивно-связанной) плазмой
- Возможность использования коррозионных газов
- Определение Endpoint на многослойных структурах
- Высокая равномерность (≤±5%)
- Высокая скорость травления
| Технические характеристики | |
| Размер столика (электрода) | 10" (254мм) |
| Размер ICP источника | 12,6" (320мм) |
| Температура столика (электрода) | 5-60⁰С |
| Материал столика (электрода) | Монель (алюминиевый адаптер) |
| RF мощность смещения | 300 Вт, 13,56 МГц |
| RF мощность ICP источника | 1000Вт, 2 МГц |
| Вакуумный насос | 700 л/с турбонасос |
| Минимальное давление | <1x10e-6 Торр |
| Контроль давления | Автоматический, 0-100 мТорр |
| Газовые линии | 4 линии (с цифровыми MFC) |
| Система контроля | PLC, DeviceNet (нет совместимости с SECS/GEM) |
| Операционная оболочка | PLC (на базе Windows 7) |
| Требования к электропитанию | 25А 200/208 В, 50/60Гц, 3 фазы 16А 380/400В, 50/60Гц, 3 фазы |
| Размеры | Высота 206,2см (с газораспределительным шкафом) Глубина 138,7см Ширина 68,5 см |
| Опции | Температура столика (электрода): от -40⁰С до +200⁰С; RF мощность ICP источника: 2000Вт; RF мощность смещения : 600 Вт; 1200 л/с турбонасос с магнитным подвесом; Endpoint : OES/OEI/Laser; Дополнительные газовые линии (до 20 линий); |