ДОСТАВКА ПО РОССИИ И СТРАНАМ СНГ
РЕЖИМ РАБОТЫ
09.00-18.00, пн-пт

Установка атомно-слоевого осаждения ZP-500M

ZP-500M - система атомно-слоевого осаждения, ориентированная на среднесерийное производство. Полностью автоматизированная система обработки пластин диаметром до 200 мм обеспечивает простое и надежное использование. Имеется одна рабочая камера для обработки до 500 пластин одновременно. Широкая библиотека процессов позволяет осаждать тонкие пленки оксидов (TiO2, HfO2, SiO2, ZnO, ZrO2, Al2O3, La2O3, SnO2 и тд.), нитридов (TiN, SiN, AlN, TaN, ZrN, HfN, WN и тд.) металлов (Co, Cu, Ta, Ti, W, Ge, Pt, Ru, Ni, Fe), полупроводники A2B6, A3B5 и сложные оксиды (GaAs, AlP, InP, GaP, InAs, LaHfxOy, SrTiO3, SrTaO6). Широко применяется в технологии производства МЭМС, НЭМС, ОСИД и плоских дисплеев, солнечных элементов, при нанесении оптических и наноразмерных покрытий.

Осаждаемые материалы:

  • оксиды (TiO2, HfO2, SiO2, ZnO, ZrO2, Al2O3, La2O3, SnO2 и т.д.)
  • нитриды (TiN, SiN, AlN, TaN, ZrN, HfN, WN и т.д.)
  • металлы (Co, Cu, Ta, Ti, W, Ge, Pt, Ru, Ni, Fe)
  • полупроводники A2B6, A3B5 и сложные оксиды (GaAs, AlP, InP, GaP, InAs, LaHfxOy, SrTiO3, SrTaO6)

Особенности:

  • Установка разработана специально для промышленного, крупносерийного производства
  • Рабочая камера для групповой обработки пластин размером до 200 мм
  • Регулируемая температура подложки 25 – 500°C
  • Подогреваемые линии подачи прекурсоров (в зависимости от конфигурации прекурсоров). Стандартно 2 линии
  • Время цикла осаждения составляет 5 с
  • Система управления на основе PLC и сенсорного дисплея, с возможностью задания параметров технологического процесса
  • Установка в условиях чистых помещений
 Технические характеристики
Размер пластинДо 200 мм включительно
Температура подложкиОт комнатной до 500⁰С, с точностью ± 0,1⁰С
Линии подачи прекурсоров2 линии (опционально - большее число)
Температура линии подачи прекурсоровОт комнатной до 200⁰С, с точностью ± 0,1⁰С
Специальные ALD клапаныSwagelok ALD
Предельное давление<5∙10-3 Торр
Газ-носительN2 или Ar
Режим осажденияПоследовательный или интервальный
Система управленияPLC и сенсорный экран/дисплей
Питание50-60 Гц, 220 В / 20 A AC
Равномерность осажденияПо пластине <± 1%
Между пластинами < ±1,5%
ПроизводительностьДо 500 пластин Ø200 мм
Время цикла осаждения5 с
Габаритные размеры, мм1400x800x2000
ОпцииДополнительные линии подачи прекурсоров;
Расширенный диапазон температур для подогреваемых линий подачи прекурсоров;