ДОСТАВКА ПО РОССИИ И СТРАНАМ СНГ
РЕЖИМ РАБОТЫ
09.00-18.00, пн-пт
Корзина (0)
Установка плазмохимического осаждения слоев Vision 310 PECVD
- a-Si:HSiO2
- Si3N4 (с регулируемыми механическими напряжениями)
- SiON
- SiC
Особенности:
- Идеально подходит для исследований и разработок
- Групповая и одиночная обработка пластин размером от 2" до 12"
- Высокая равномерность (<±3%)
- Низкий уровень дефектности
- Надежность
- Компактный размер
| Технические характеристики | |
| Размер столика (электрода) | 12.1" (305мм) |
| Температура столика (электрода) | ≤380⁰С |
| Материал столика (электрода) | Алюминий |
| RF мощность верхнего электрода | 300Вт, 13,56МГц, емкостной разряд |
| Вакуумный насос | 250 м3/ч насос Рутса |
| Минимальное давление | <10 мТорр |
| Контроль давления | Автоматический, 0-1 Торр |
| Газовые линии | 5 линий (цифровые MFC) |
| Система контроля | PLC, DeviceNet (нет совместимости с SECS/GEM) |
| Операционная оболочка | PLC (на базе Windows XP/7) |
| Требования к электропитанию | 32А, 200/208В, 60Гц, 3 фазы 25А, 380/400В, 50Гц, 3 фазы |
| Размеры | Высота 117,2см (214,7см с газораспределительным шкафом) Глубина 93,4см Ширина 73,0см |
| Опции | Источник питания 500Вт, 100-460КГц для смешанного возбуждения разряда (контроль мех. напряжений SiNx); Система определения окончания процесса Endpoint: OES; Сухой форвакуумный насос; Дополнительные газовые линии (до 10 линий); Система нагрева стенок камеры; |