ДОСТАВКА ПО РОССИИ И СТРАНАМ СНГ
РЕЖИМ РАБОТЫ
09.00-18.00, пн-пт
Корзина (0)
Установка плазмохимического осаждения слоев Vision 410 PECVD
- a-Si:H
- SiO2
- Si3N4 (с регулируемыми механическими напряжениями)
- SiON
- SiC
Особенности:
- Идеально подходит для небольшого производства
- Одновременная обработка большого количества пластин размером от 2” до 12”
- Нагреваемый нижний и верхний электроды
- Высокая равномерность (≤±2.5%)
- Низкий уровень дефектности
- Высокая скорость осаждения
- Надежность
- Компактный размер
| Технические характеристики | |
| Размер столика (электрода) | 16" (406мм) |
| Температура столика (электрода) | 80-350⁰С |
| Материал столика (электрода) | Алюминий |
| RF мощность верхнего электрода | 600Вт, 13,56МГц |
| Вакуумный насос | 10 000 л/мин сухой насос |
| Минимальное давление | <1x10e-2 Торр |
| Контроль давления | Автоматический, 0-2 Торр |
| Газовые линии | 6 линий |
| Система контроля | Аналого-цифровая (совместимость с SECS/GEM) |
| Операционная оболочка | Cortex (на базе Windows 7) |
| Требования к электропитанию | 220/230 В, 50/60Гц, 3 фазы 380/415В, 50Гц, 3 фазы |
| Размеры | Высота 224см Глубина 114.6см Ширина 67.0 см |
| Опции | Источник питания 1200Вт, 13,56МГц Endpoint для очистки камеры: OES Endpoint для контроля толщины: OEI Дополнительные газовые линии (до 8 линий) |